转自：前瞻产业研究院

本文核心数据：中国半导体清洗设备市场规模;中国半导体湿法设备中超纯槽体成本占比;中国半导体湿法设备超纯槽体市场规模;企业市占率等

半导体湿法设备超纯槽体的概述

半导体湿法设备是用于半导体制造过程中的一系列设备，通过使用化学溶液与半导体材料进行反应来实现特定的工艺目的。

半导体湿法设备超纯槽体是半导体湿法设备用于盛放晶圆片、化学清洗液、去离子水等物品的容器，半导体湿法设备关键零部件之一。根据化学液的浓度、酸碱度和使用温度等条件，选择合适的槽体材料至关重要。常见的材质有NPP、PVDF、PTFE、石英玻璃和不锈钢等。

半导体湿法设备主要包括湿法清洗刷洗设备及湿法刻蚀设备。目前在主流的芯片制程中，超过90%的芯片刻蚀都是干法，湿法刻蚀设备应用较为有限。而湿法清洗是主流的清洗技术路线，占芯片制造清洗步骤数量的90%以上。因此本文中半导体湿法设备相关市场规模主要指半导体清洗设备市场规模。

半导体湿法设备超纯槽体产业链结构分析

半导体湿法设备超纯槽体的产业链上游环节主要由原材料及加工设备构成，提供制造半导体湿法设备超纯槽体所需的各类基础材料。这些材料包括FTFE、PFA、PVDF等塑料原料。中游环节涉及半导体湿法设备超纯槽体的设计、研发、生产制造和质量控制。下游环节是半导体湿法设备制造。

中国半导体清洗设备市场分析：市场规模超150亿元

根据Markets and Markets的数据，2022-2024年中国全球半导体清洗设备规模逐年增长，2022年、2023年、2024年全球半导体清洗设备市场规模分别为89.95亿美元、101.00亿美元、111.50亿美元(换算成人民币分别为605.01亿元、711.72亿元、794.07亿元)，年均增速为14.56%。

根据前瞻产业研究院调研，2022年、2023年、2024年，中国半导体清洗设备市场规模分别占全球半导体清洗设备规模的17%、18%、20%，故2022年、2023年、2024年中国半导体清洗设备市场规模分别为102.85亿元、128.11亿元、158.82亿元。

中国半导体湿法设备中，超纯槽体成本占比约2%

半导体湿法设备超纯槽体是半导体湿法设备的关键部件，目前市场价格在3-5万元左右，假设单台清洗设备槽体需求为5个，则2022年、2023年、2024年中国半导体清洗设备的超纯槽体成本分别为15.0万元、17.5万元、21.0万元。

盛美上海为中国半导体湿法设备主要生产企业之一，按照盛美上海公布的年报数据计算，2022年、2023年、2024年其单台清洗设备原材料总成本分别为765.6万元、797.6万元、1098.5万元。2022年、2023年、2024年超纯槽体成本占比分别为1.96%，2.19%，1.91%。

注：1)单台清洗设备超纯槽体成本=超纯槽体单价*单台清洗设备槽体需求;2)单台清洗设备原材料成本=清洗设备原材料总成本/清洗设备产量;3)单台清洗设备原材料超纯槽体成本占比=单台清洗设备超纯槽体成本/单台清洗设备原材料成本*100%。

中国半导体湿法设备超纯槽体市场规模：2024年超过3亿元

基于上述数据，得到2022年、2023年、2024年中国半导体湿法设备超纯槽体市场规模分别为2.02亿元、2.81亿元、3.03亿元。

注：中国半导体湿法设备超纯槽体市场规模=中国半导体清洗设备市场规模*中国半导体湿法设备超纯槽体成本占比。

中国半导体湿法设备超纯槽体市场竞争格局：三家代表企业市占率接近70%

半导体湿法设备超纯槽体对产品的技术要求较高，目前国内能够生产满足半导体制造要求的企业主要有沃凯氟、沃特华本、霓佳斯等，其他企业市场份额占比较小。

更多本行业研究分析详见前瞻产业研究院《全球及中国半导体仪器仪表行业发展前景展望与投资战略规划分析报告》

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