投资者提问:
公司设备是否可以应用于第三代半导体GaN(氮化镓)领域?
董秘回答(捷佳伟创SZ300724):
您好! 公司子公司创微微电子专注集成电路湿法工艺设备研发生产。产品覆盖6–12英寸批式及单晶圆刻蚀/清洗、光掩膜石英衬底与光掩膜版清洗、光学玻璃清洗等,服务晶圆制造、第三代半导体(SiC/GaN)、硅基功率器件、光掩膜及先进封装领域,提供“工艺+设备+服务”整厂一体化交付。谢谢!
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