芯联集成申请半导体器件相关专利,半导体器件制造可避免第二电极层过刻蚀损伤
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2026-05-17 09:43:31

5月17日消息,国家知识产权局信息显示,芯联集成电路制造股份有限公司申请一项名为“半导体器件及其制造方法”的专利。申请公布号为CN122054611A,申请号为CN202610144599.9,申请公布日期为2026年5月15日,申请日期为2026年2月2日,发明人张子文、赵晓燕、林笛,专利代理机构北京磐华捷成知识产权代理有限公司,专利代理师于沈阳,分类号H10D1/68。

专利摘要显示,一种半导体器件及其制造方法,制造方法包括:提供基底,并在基底中形成深沟槽;在基底表面以及深沟槽的底部和侧壁形成电容叠层结构;在第二电极材料层上形成电极保护层;去除位于基底表面的部分电极保护层和部分电容叠层结构,由剩余的电容叠层结构形成深沟槽电容器;在电极保护层上形成覆盖结构层,以及对覆盖结构层进行刻蚀以形成贯穿覆盖结构层的通孔,其中,刻蚀停止于电极保护层;形成金属互连结构,金属互连结构的至少部分填充于通孔内。本申请使得在刻蚀覆盖结构层以形成通孔的过程中,刻蚀工艺能够受控地停止于电极保护层,避免了刻蚀工艺因工艺偏差对第二电极层造成过刻蚀损伤。

芯联集成于2018年3月9日成立,2023年5月10日在上海证券交易所上市,注册地址和办公地址均位于浙江省绍兴市。该公司是国内在MEMS和功率器件领域具有一定影响力的企业,专注晶圆代工及模组封测业务,提供一站式系统代工解决方案。

芯联集成主营业务为MEMS和功率器件等领域的晶圆代工及模组封测业务,为客户提供一站式系统代工解决方案。所属申万行业为电子 - 半导体 - 集成电路制造,所属概念板块包括第三代半导体、中芯国际概念、灵巧手。

2025年,芯联集成营业收入81.8亿元,在行业7家公司中排名第5,远低于第一名中芯国际的673.23亿元和第二名华虹公司的172.91亿元,也低于行业平均数166.12亿元和中位数108.85亿元。其主营业务中,集成电路晶圆制造代工59.83亿元,占比73.15%;模组封装15.08亿元,占比18.43%;研发服务及其他3.98亿元,占比4.87%;其他(补充)2.9亿元,占比3.55%。净利润方面,2025年为 - 19.33亿元,在行业7家公司中排名第7,而第一名中芯国际净利润72.09亿元,第二名赛微电子13.88亿元,行业平均数为9.67亿元,中位数为4.66亿元。

芯联集成电路制造股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1电容麦克风、半导体结构及其测试方法发明专利公布CN202610365274.32026-03-24CN122054060A2026-05-15傅思宇、姚阳文
2霍尔器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610321598.72026-03-17CN121888864A2026-04-17黄艳、赵晓燕
3套刻精度监控结构、监控方法、半导体结构及其制造方法发明专利公布CN202610325340.42026-03-17CN121978872A2026-05-05李忠仁、赵晓燕、何福秀
4一种半导体器件及其制造方法发明专利公布CN202610201260.82026-02-11CN122054671A2026-05-15黄艳、赵晓燕
5MEMS器件及其制造方法发明专利公布CN202610173899.X2026-02-06CN121974292A2026-05-05胡永宝、姚阳文、徐泽洋
6高压电容隔离器及其制造方法发明专利公布CN202610156455.52026-02-04CN121645907A2026-03-10徐涛、王旭、刘晓雪
7MEMS器件及其制备方法发明专利公布CN202610161355.12026-02-04CN122054059A2026-05-15王鹏
8半导体器件及其制造方法发明专利公布CN202610144599.92026-02-02CN122054611A2026-05-15张子文、赵晓燕、林笛
9深沟槽隔离结构及其制备方法、半导体器件发明专利实质审查的生效、公布CN202610075516.52026-01-20CN121888936A2026-04-17张涛、王旭
10用于半导体器件测试的测试焊盘结构及半导体器件发明专利公布CN202610075821.42026-01-20CN122028704A2026-05-12李忠仁、赵晓燕、何启庆
11负性光刻胶去边方法发明专利公布CN202512047655.52025-12-31CN121657384A2026-03-13张孟龙、徐万里、吴健、张弓玉帛、钭诗恩
12封装件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512031182.X2025-12-30CN121772812A2026-03-31徐达武、龚俊能
13一种半导体器件及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511994715.82025-12-26CN121728807A2026-03-24叶强飞、黎哲、何云、罗顶
14电熔丝的制备方法、电熔丝及半导体集成结构发明专利实质审查的生效、公布CN202511994584.32025-12-26CN121772735A2026-03-31黄艳、赵晓燕、钟鹏
15一种半导体器件及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511980858.32025-12-25CN121712052A2026-03-20叶强飞、黎哲、何云、罗顶
16输出芯片及光控继电器发明专利实质审查的生效、公布CN202511953919.72025-12-23CN121814072A2026-04-07李宝杰、任文珍、丛茂杰
17一种电容式麦克风、半导体器件及其制造方法发明专利授权CN202511882683.22025-12-15CN121310023B2026-04-14傅思宇、陆晓龙、徐泽洋、姚阳文
18一种半导体器件及其制造方法发明专利公布CN202511868002.72025-12-11CN121645906A2026-03-10秦永山、王旭
19晶圆异常原因分析方法、电子设备和可读存储介质发明专利公布CN202511867408.32025-12-11CN121682332A2026-03-17王颖、康栋、李鹏、孙海丽
20一种MEMS加速度计及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511852166.02025-12-10CN121276091A2026-01-06马玉莎、张兆林、王红海
21屏蔽栅沟槽型晶体管及其制造方法发明专利公布CN202511837217.22025-12-08CN121645929A2026-03-10刘书晓、周圣杰
22高压半导体器件及其制造方法发明专利授权CN202511834633.72025-12-08CN121310568B2026-03-24谢仕源、吴荣成、白鑫、耿爽
23麦克风及其制造方法发明专利授权CN202511824007.X2025-12-05CN121262521B2026-03-31唐丽文
24产品检测方法、装置、存储介质和电子设备发明专利授权CN202511823575.82025-12-05CN121276286B2026-05-01孙海丽、康栋、王颖、李鹏
25RC-IGBT及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511808670.02025-12-03CN121310558A2026-01-09唐伟闻、余龙
26纳米探针的修复方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511810106.22025-12-03CN121522223A2026-02-13李帅
27用于CESL特性测试的测试版图及测试结构发明专利公布CN202511764655.02025-11-27CN121568558A2026-02-24吴桥伟
28基片背面缺陷标记方法及标记设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511753460.62025-11-26CN121616539A2026-03-06张良敏、许大建
29虚拟量测方法、电子设备和可读存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511742208.52025-11-25CN121598081A2026-03-03康栋、孙海丽、王颖、李鹏
30半导体器件及其制造方法发明专利公布CN202511682862.12025-11-17CN121548044A2026-02-17孔孟书、孙金山、顾学强、陈为立、徐剑
31提高键合晶圆机械强度的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511671695.02025-11-14CN121493865A2026-02-10陆晓龙、王红海、姚阳文
32薄膜沉积方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511664756.02025-11-13CN121428522A2026-01-30李官勐、左中伟、李乾伟、王志军、王颖超
33半导体器件及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511665207.52025-11-13CN121815687A2026-04-07裴博、吴荣成、周旭、杨晓寅、陈连旭
34一种半导体器件及其制备方法和电子装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511655487.12025-11-12CN121398101A2026-01-23张俊龙、黎震宇、王琛、刘国安
35半导体器件及其制造方法发明专利公布CN202511647250.92025-11-11CN121536877A2026-02-17王宇、陆晓龙、姚阳文
36IGBT结构及其制备方法、半导体器件发明专利实质审查的生效、公布CN202511628929.32025-11-07CN121510604A2026-02-10张玉琦、戴银、任文珍、丛茂杰
37掩膜版组、芯片标识的形成方法及晶圆发明专利实质审查的生效、公布CN202511613526.12025-11-06CN121232519A2025-12-30张弓玉帛、金港杰、周旺、陈浩冬
38一种绝缘体上硅衬底及其制备方法发明专利授权CN202511606930.62025-11-05CN121078798B2026-03-24魏翔、王琛
39统计过程控制方法、装置、设备及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202511589900.92025-11-03CN121350142A2026-01-16周暐、李悦、孙海丽、项林、高菲燕
40一种半导体结构及其形成方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511540384.02025-10-27CN121398069A2026-01-23姚泽辉、李婧、张文博、金善武
41屏蔽栅沟槽型晶体管的制备方法及屏蔽栅沟槽型晶体管发明专利实质审查的生效、公布CN202511513621.42025-10-22CN121357933A2026-01-16徐西贤、阚志国
42沟槽留膜厚度检测方法、半导体结构形成方法及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511513278.32025-10-22CN121368377A2026-01-20李宏伟、王旭
43一种功率半导体器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511474976.72025-10-15CN121174537A2025-12-19胡俊杰、任文珍
44半导体器件及基于其的接合状态检测方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511422267.42025-09-30CN121358260A2026-01-16王涛、王红海
45半导体器件及其制作方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511391055.42025-09-26CN121335132A2026-01-13徐鹏、王琛、刘国安
46监控结构、芯片、监控方法及光刻工艺控制系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511362916.62025-09-23CN121276894A2026-01-06周义鹏、李福松、吴荣成、周旭
47一种半导体器件及其制造方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511328616.62025-09-17CN121174546A2025-12-19周圣杰、阚志国、李远哲
48一种半导体器件及其制造方法发明专利授权CN202511318736.82025-09-16CN120824256B2025-12-23黎震宇、吴梦圆、张俊龙、王琛、刘国安
49一种半导体器件及其制造方法发明专利授权CN202511318587.52025-09-16CN120824255B2026-02-24黎震宇、张俊龙、吴梦圆、王琛、刘国安
50静电放电保护电路和电子器件发明专利实质审查的生效、公布CN202511314048.42025-09-15CN121355852A2026-01-16阳平、任文珍、丛茂杰

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