2月14日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷卓越科技股份有限公司申请一项名为“高动态弯沉测量仪原位计量校准方法与装置”的专利。申请公布号为CN121521161A，申请号为CN202511668310.5，申请公布日期为2026年2月13日，申请日期为2025年11月14日，发明人李清泉、林红、曹民，专利代理机构武汉科皓知识产权代理事务所（特殊普通合伙），专利代理师彭艳君，分类号G01C25/00、E01C23/01、G01C5/00。

专利摘要显示，本发明提供一种高动态弯沉测量仪原位计量校准方法与装置，其方法包括：通过架设于目标测区的高动态弯沉计量装置获取在高动态弯沉测量装置进入目标测区前至离开目标测区的过程中每个采样时刻获取的路面横向形变数据；通过高动态弯沉测量装置获取其进入至离开目标测区过程中每个采样时刻获取的动态弯沉测量值；分别取关键时刻的路面横向形变数据和原始路面弯沉测量数据；基于关键时刻的路面横向形变数据对关键时刻的原始路面弯沉测量数据进行计量校准。本发明通过精度更高的弯沉计量数据对原始路面弯沉测量数据进行计量校准，得到了更加准确的校准后的路面弯沉测量数据，提升了高动态弯沉测量装置检测结果的可靠性。

天眼查数据显示，武汉光谷卓越科技股份有限公司成立日期2001年10月22日，法定代表人曹民，所属行业为软件和信息技术服务业，企业规模为中型，注册资本7700万人民币，实缴资本7500万人民币，注册地址为武汉东湖新技术开发区光谷大道308号光谷动力节能环保科技企业孵化器（加速器）二期2号新型厂房1201-1212。武汉光谷卓越科技股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目465次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息126条，拥有行政许可13个。

武汉光谷卓越科技股份有限公司近期专利情况如下：

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