国林科技:公司半导体设备可满足工艺需求_热点

创始人

2025-06-13 17:03:28

投资者提问：

公司在第三代半导体器件氧化层沉积良率提升的专用臭氧工艺与设备有哪些？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。国林半导体目前所研发的为半导体行业专用的臭氧发生器和臭氧水机设备可满足该工艺需求。感谢您的关注。

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