7月4日消息，国家知识产权局信息显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司申请一项名为“像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构”的专利，授权公告号CN115831984B，授权公告日为2026年7月3日。申请公布号为CN115831984A，申请号为CN202111092729.2，申请公布日期为2026年7月3日，申请日期为2021年9月17日，发明人王倩，专利代理机构上海光华专利事务所（普通合伙），专利代理师罗泳文，分类号H10F39/18。

专利摘要显示，本发明提供一种像素结构、像素结构的制作方法及共享像素布局结构，像素结构包括：衬底；光电转换区，位于衬底中；电荷收集区，布置于衬底中；第一导流结构，自衬底的第一面朝第二面延伸至衬底内部，所述电荷收集区及所述光电转换区设置于所述第一导流结构同侧；第二导流结构，设置于衬底的第一面，与第一导流结构连接且延伸至电荷收集区；电隔离层，设置于第一导流结构、第二导流结构与衬底之间的界面。本发明可使光电转换区获得更高的满阱容量及光电转换区感度的同时可以更好的兼容紧凑的共享像素布局结构。

天眼查数据显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司成立日期2017年4月13日，法定代表人XU CHEN，所属行业为软件和信息技术服务业，企业规模为大型，注册资本40184.1572万人民币，实缴资本40230.6775万人民币，注册地址为中国（上海）自由贸易试验区祥科路111号3号楼6楼612室。思特威（上海）电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息283条，专利信息686条，拥有行政许可29个。

思特威（上海）电子科技股份有限公司近期专利情况如下：

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