6月6日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷卓越科技股份有限公司申请一项名为“基于精密三维的路面井盖检测方法”的专利，授权公告号CN116883340B，授权公告日为2026年6月5日。申请公布号为CN116883340A，申请号为CN202310791500.0，申请公布日期为2026年6月5日，申请日期为2023年6月29日，发明人林红、曹民、彭园、韦仕仕、童小雪，专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司，专利代理师梁军丽，分类号G06T7/00、G06T7/13、G06T7/73、G06T17/05。

专利摘要显示，本发明提供一种基于精密三维的路面井盖检测方法，包括：基于路面高程三维建模数据，得到井盖边缘的二值图，从井盖边缘的二值图中得到井盖边缘种子区域集合，获取井盖边缘种子区域集合对应的第一井盖边缘位置集合，确定第一井盖边缘位置集合中每一个井盖的第一代表井盖边缘位置，并对第一代表井盖边缘位置进行膨胀操作得到第二代表井盖边缘位置，基于第一代表井盖边缘位置、第二代表井盖边缘位置及路面高程三维建模数据，得到井盖的路框差；基于第一代表井盖边缘位置或第二代表井盖边缘位置，获取井盖的类型信息及井盖的破损信息，通过利用井盖与路面的高差及井盖的几何特征实现路面井盖的快速检测与定位，同时实现路框差的准确提取。

天眼查数据显示，武汉光谷卓越科技股份有限公司成立日期2001年10月22日，法定代表人曹民，所属行业为软件和信息技术服务业，企业规模为中型，注册资本7700万人民币，实缴资本7500万人民币，注册地址为武汉东湖新技术开发区光谷大道308号光谷动力节能环保科技企业孵化器（加速器）二期2号新型厂房1201-1212。武汉光谷卓越科技股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目488次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息137条，拥有行政许可13个。

武汉光谷卓越科技股份有限公司近期专利情况如下：

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