3月4日消息,国家知识产权局信息显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司申请一项名为“一种分体式晶圆托盘和半导体设备”的专利。申请公布号为CN121593034A,申请号为CN202411126068.4,申请公布日期为2026年3月3日,申请日期为2024年8月15日,发明人王宝赋、周宁、邹煜申、陈耀、丁伟,专利代理机构上海元好知识产权代理有限公司,专利代理师汤恩洋、张静洁,分类号C23C16/458、H10P72/10。
专利摘要显示,本发明提供一种分体式晶圆托盘和半导体设备,分体式晶圆托盘的外边缘底部设置有用于支撑其的支撑桶,分体式晶圆托盘包括内托盘、外环和盖环。内托盘上设有用于承载晶圆的承载面;外环沿内托盘的周向设置,外环上设有第一支撑面以支撑内托盘;盖环环绕内托盘上的承载面设置,且至少覆盖外环的部分顶部表面。本发明提供的分体式晶圆托盘和半导体设备,通过将晶圆托盘拆分为内托盘、外环以及盖环三个部分,内托盘用于承载晶圆,外环用于抵靠于支撑桶,盖环用于保护内托盘以及外环,从而减小内托盘的温度差,降低内托盘和外环因温差过大导致出现破裂的可能性。盖环与内托盘分体式设计,降低在反应时盖环环绕于晶圆处的温度,提高晶圆的成膜质量。
天眼查数据显示,中微半导体设备(上海)股份有限公司成立日期2004年5月31日,法定代表人尹志尧,所属行业为专用设备制造业,企业规模为大型,注册资本62614.5307万人民币,实缴资本62236.3735万人民币,注册地址为上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号。中微半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了29家企业,参与招投标项目76次,财产线索方面有商标信息109条,专利信息1647条,拥有行政许可77个。
中微半导体设备(上海)股份有限公司近期专利情况如下:
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 法律状态 | 申请号 | 申请日期 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日期 | 发明人 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种工艺顶盖及气相沉积设备 | 实用新型 | 授权 | CN202521979639.9 | 2025-09-15 | CN223458392U | 2025-10-21 | 刘从灵、谢振南、郑振宇、柴浩瑞、姜勇、郭世平 |
| 2 | 反应腔、高深宽比结构及其形成方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510550377.2 | 2025-04-28 | CN120072612B | 2025-07-25 | 尹志尧、徐伟娜、张一川、张凯、丛海、刘志强 |
| 3 | 基片托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202530230568.1 | 2025-04-25 | CN309730273S | 2026-01-09 | 陈耀、王家毅、陶章峰、陆顺开 |
| 4 | 基片托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202530230569.6 | 2025-04-25 | CN309730274S | 2026-01-09 | 陈耀、王家毅、陶章峰、陆顺开 |
| 5 | 一种气相沉积设备及半导体处理系统 | 发明专利 | 公布 | CN202510444720.5 | 2025-04-09 | CN120830094A | 2025-10-24 | 尹志尧、倪图强、丛海、请求不公布姓名、杨宽、张海龙、朱荣帅 |
| 6 | 一种掩膜结构形成方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202510293724.8 | 2025-03-12 | CN121496378A | 2026-02-10 | 罗彬、赖锋源、张海龙、尹志尧、丛海 |
| 7 | 掩膜结构及其形成方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202510293826.X | 2025-03-12 | CN121496322A | 2026-02-10 | 罗彬、赖锋源、刘健钢、尹志尧、丛海 |
| 8 | 一种掩膜结构及其制备方法、半导体设备 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202510293764.2 | 2025-03-12 | CN121496321A | 2026-02-10 | 尹志尧、丛海、罗彬、赖锋源、张海龙 |
| 9 | 一种环组件及成膜装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520251908.3 | 2025-02-17 | CN223780392U | 2026-01-09 | 郭世平、姜勇、郑振宇、丁伟 |
| 10 | 一种边缘环组件、下电极组件、等离子体处理装置和制备方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510165658.6 | 2025-02-14 | CN119673741B | 2025-05-30 | 叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟 |
| 11 | 一种边缘环组件、下电极组件、等离子体处理装置和制备方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510165658.6 | 2025-02-14 | CN119673741B | 2025-05-30 | 叶如彬、范光伟、田宁、吕翌晟 |
| 12 | 一种半导体加工设备及其控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510147729.X | 2025-02-10 | CN119601451B | 2025-05-09 | 李博睿、卢明、倪图强 |
| 13 | 一种阻抗匹配器、射频组件与等离子体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202520210442.2 | 2025-02-10 | CN222637222U | 2025-03-18 | 卢明、李博睿、倪图强 |
| 14 | 一种半导体加工设备及其控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510147729.X | 2025-02-10 | CN119601451B | 2025-05-09 | 李博睿、卢明、倪图强 |
| 15 | 一种化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520172387.2 | 2025-01-24 | CN223780352U | 2026-01-09 | 杜冰洁、路今、姜银鑫 |
| 16 | 一种下电极组件、等离子体处理设备及其电压控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510098695.X | 2025-01-21 | CN119517722B | 2025-05-13 | 田宁、叶如彬 |
| 17 | 一种下电极组件、等离子体处理设备及其电压控制方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202510098695.X | 2025-01-21 | CN119517722B | 2025-05-13 | 田宁、叶如彬 |
| 18 | 一种隔离结构及化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520123428.9 | 2025-01-17 | CN223780362U | 2026-01-09 | 黄稳、李勇志、姜勇、陆顺开 |
| 19 | 一种化学气相沉积装置 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202510073813.1 | 2025-01-16 | CN119932527A | 2025-05-06 | 张辉、姜银鑫、姜勇 |
| 20 | 缓冲装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520107111.6 | 2025-01-16 | CN223780359U | 2026-01-09 | 杨闰清、徐灿阳、陈冬、许灿、何伟业 |
| 21 | 一种化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202520086318.X | 2025-01-14 | CN223780351U | 2026-01-09 | 陆顺开、周子琛、张辉 |
| 22 | 一种气体流量控制阀、气体输送装置及气体供应方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411976013.2 | 2024-12-31 | CN119374033A | 2025-01-28 | 徐志鹏、倪图强、连增迪 |
| 23 | 化学气相沉积设备 | 实用新型 | 授权 | CN202423319091.3 | 2024-12-31 | CN223780363U | 2026-01-09 | 朱泉松、庄宇峰、吕术亮、李远 |
| 24 | 一种晶圆承载组件及半导体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202423320135.4 | 2024-12-31 | CN223899675U | 2026-02-10 | 陈星棋 |
| 25 | 一种射频发生器、半导体处理设备及使用方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411969617.4 | 2024-12-30 | CN119382671B | 2025-09-12 | 徐志鹏、常健、王亚军 |
| 26 | 一种用于气柜可燃性测试的系统及方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411980652.6 | 2024-12-30 | CN119375415A | 2025-01-28 | 王治平、宋飘、宋常征、权汉钊 |
| 27 | 一种射频发生器、半导体处理设备及使用方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411969617.4 | 2024-12-30 | CN119382671B | 2025-09-12 | 徐志鹏、常健、王亚军 |
| 28 | 一种半导体工艺平台 | 实用新型 | 授权 | CN202423296470.5 | 2024-12-30 | CN223660196U | 2025-12-12 | 陶珩、何伟业、许灿、王能语、杨闰清、吴红星、廖腊财、桑成松、刘学滨、陈冬、刘青、刘雯伊 |
| 29 | 一种半导体处理设备及其固态前驱体输送系统和输送方法 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、实质审查的生效、公布 | CN202411947571.6 | 2024-12-26 | CN119372628B | 2025-03-18 | 庄宇峰、朱泉松、李远、孙家鑫 |
| 30 | 一种用于半导体处理设备的气体输送装置和气体通路模块 | 实用新型 | 授权 | CN202423230256.X | 2024-12-25 | CN223524974U | 2025-11-07 | 姜学斌、彭建录、梁冬冬、周楚秦、张嘉赫 |
| 31 | 晶圆托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202430820667.0 | 2024-12-24 | CN309541504S | 2025-10-14 | 汪国元、代宇通、姜勇 |
| 32 | 晶圆托盘 | 外观专利 | 授权 | CN202430817296.0 | 2024-12-23 | CN309541503S | 2025-10-14 | 汪国元、代宇通、姜勇 |
| 33 | 一种沉积金属氮化物的方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411897577.7 | 2024-12-20 | CN120193249A | 2025-06-24 | 沈成绪、许灿、高烨、陈宇畅、刘鹏杰、杨闰清 |
| 34 | 气体喷淋头、喷淋头组件以及化学气相沉积装置 | 实用新型 | 授权 | CN202423152151.7 | 2024-12-19 | CN223780356U | 2026-01-09 | 陈佳波、徐立、吴红星、吕术亮、李雪子 |
| 35 | 等离子体处理设备 | 实用新型 | 授权 | CN202423135658.1 | 2024-12-18 | CN223665407U | 2025-12-12 | 王许、朱永成、李琳、王智昊 |
| 36 | 机械臂及半导体设备零件的洁净度原位检测系统 | 实用新型 | 授权 | CN202423135638.4 | 2024-12-18 | CN223657031U | 2025-12-12 | 孙祥、刘若晨 |
| 37 | 一种半导体处理设备及其多区加热板和多区温控驱动方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411825844.X | 2024-12-11 | CN119835809A | 2025-04-15 | 张辉、姜银鑫、杜冰洁 |
| 38 | 一种气路加热模组 | 实用新型 | 授权 | CN202422993593.8 | 2024-12-04 | CN223528230U | 2025-11-07 | 毛绪光、吴红星、李远 |
| 39 | 一种真空平台 | 实用新型 | 授权 | CN202422993652.1 | 2024-12-04 | CN223535207U | 2025-11-11 | 刘雯伊、王能语、刘学滨 |
| 40 | 锁扣组件和反应腔 | 实用新型 | 授权 | CN202422980570.3 | 2024-12-03 | CN223535206U | 2025-11-11 | 黄稳、姜勇 |
| 41 | 流量校准仪 | 外观专利 | 授权 | CN202430745159.0 | 2024-11-25 | CN309427817S | 2025-08-08 | 段国安、连增迪、钟水苗、徐扬、倪图强 |
| 42 | 等离子体处理装置 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411668534.1 | 2024-11-20 | CN119170474B | 2025-02-14 | 张一川、田宁、叶如彬 |
| 43 | 下电极组件及等离子体处理设备 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411660380.1 | 2024-11-19 | CN119170554B | 2025-07-08 | 田宁、叶如彬 |
| 44 | 下电极组件及等离子体处理设备 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411660380.1 | 2024-11-19 | CN119170554B | 2025-07-08 | 田宁、叶如彬 |
| 45 | 半导体处理设备及其直流电压信号控制系统 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411629639.6 | 2024-11-14 | CN119182310B | 2025-09-16 | 倪图强、卢明、李博睿 |
| 46 | 半导体处理设备及其直流电压信号控制系统 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411629639.6 | 2024-11-14 | CN119182310B | 2025-09-16 | 倪图强、卢明、李博睿 |
| 47 | 一种集成式匹配器系统及半导体处理装置 | 实用新型 | 授权 | CN202422709197.8 | 2024-11-06 | CN223527122U | 2025-11-07 | 范宏宇、李宝琛 |
| 48 | 防止下电极组件发生电弧放电的方法及等离子体处理设备 | 发明专利 | 授权、实质审查的生效、公布 | CN202411561997.8 | 2024-11-04 | CN119069332B | 2025-03-04 | 田宁、叶如彬、刘志强 |
| 49 | 气体分配盒及气相沉积设备 | 实用新型 | 授权 | CN202422687373.2 | 2024-11-04 | CN223433539U | 2025-10-14 | 张海龙、胡玲钢、莱纳德·刘、王璐瑛 |
| 50 | 一种清洁半导体零部件的装置及方法 | 发明专利 | 实质审查的生效、公布 | CN202411474501.3 | 2024-10-21 | CN119426243A | 2025-02-14 | 梁重时、丛海、朱俊麒 |
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