2月14日消息，国家知识产权局信息显示，杭州吉华高分子材料股份有限公司申请一项名为“一种紫外光固化抗指纹涂料及其制备方法、应用”的专利，授权公告号CN119875411B，授权公告日为2026年2月13日。申请公布号为CN119875411A，申请号为CN202411942405.7，申请公布日期为2026年2月13日，申请日期为2024年12月26日，发明人刘海龙、钱涛、张福禄、刘海兵，专利代理机构杭州杭诚专利事务所有限公司，专利代理师俞润体，分类号C09D4/02、C09D4/06。

专利摘要显示，本发明涉及涂料领域，公开了一种紫外光固化抗指纹涂料及其制备方法、应用。该紫外光固化抗指纹涂料包括：光固化涂料母液90‑99份，含双键含氟含硅抗指纹丙烯酸树脂1‑10份。本发明涂料固化所得涂层，在保证柔韧性的同时，具有出色的耐磨和耐刮擦性能，可大幅提高涂层的长效抗指纹性能；同时该涂层具有出色的透明度。此外，本发明涂料可通过紫外光固化方式固化，固化速度快；且紫光外固化过程不产生热量，特别适用于对温度敏感的物质；此外紫外光固化不含溶剂或挥发性有机物，更加安全环保。

天眼查数据显示，杭州吉华高分子材料股份有限公司成立日期2008年5月29日，法定代表人杨泉明，所属行业为化学原料和化学制品制造业，企业规模为小型，注册资本7000万人民币，实缴资本7000万人民币，注册地址为浙江省杭州市钱塘区临江工业园区新世纪大道1766-1号。杭州吉华高分子材料股份有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息75条，拥有行政许可11个。

杭州吉华高分子材料股份有限公司近期专利情况如下：

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