拓荆科技(688072)7月17日晚公告，经财务部门初步测算，预计公司2025年第二季度实现营业收入12.1亿元至12.6亿元，同比增长52%至58%；预计实现净利润2.38亿元至2.47亿元，同比增长101%至108%；预计实现扣非净利润2.15亿元至2.24亿元，同比增长235%至249%；预计第二季度经营活动产生的现金流量净额为14.8亿元至15.8亿元。

上年同期，拓荆科技实现营业收入7.95亿元，净利润1.19亿元，扣非净利润6416.67万元，实现经营活动产生的现金流量净额-1.78亿元。

拓荆科技是国内量产型PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高密度等离子体增强化学气相沉积）、超高深宽比沟槽填充CVD等薄膜沉积设备和混合键合设备的领军企业。

拓荆科技目前已经形成半导体薄膜沉积设备和混合键合设备两个产品系列。拓荆科技聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。

拓荆科技4月30日披露2025年第一季度报告，报告期内，公司实现营业收入7.09亿元，同比增长50.22%；实现净利润-1.47亿元；基本每股收益-0.53元。

拓荆科技在6月3日召开2025年第一季度业绩说明会时曾表示，公司2025年一季度毛利率下降，盈利能力承压主要原因是公司在2025年一季度确认收入的产品中新产品、新工艺占比较高，达到近70%，且这些新产品/新工艺在客户验证过程成本较高，导致公司毛利率同比下降。随着公司新产品/新工艺逐步进入成熟阶段，公司未来几个季度盈利能力会呈现改善态势。

公司高端半导体设备产业化基地建设项目目前已经开工，按计划稳步推进建设工作，此外，公司控股子公司拓荆键科（海宁）半导体设备有限公司正在规划新的研发与产业化基地。公司目前在手订单充足，且持续推出新产品、新工艺，目前验证进展顺利，逐步呈规模化量产状态，为后续营业收入及盈利奠定基础。

拓荆科技在7月17日晚最新公告中表示，公司之所以预计2025年第二季度营业收入会较上年同期有较大增长，主要是因为公司积极把握半导体设备国产替代的战略机遇，依托薄膜沉积设备（PECVD/ALD/SACVD/HDPCVD/Flowable CVD）和三维集成领域的先进键合设备及配套量检测设备的技术领先优势，产品成熟度及性能优势获得客户广泛认可，市场渗透率进一步提升，收入持续高速增长。

另外，随着公司产品矩阵的持续完善和市场渗透率的提升，公司先进制程的验证机台已顺利通过客户认证，逐步进入规模化量产阶段。基于新型设备平台（PF-300TPlus和PF-300M）和新型反应腔（pX和Supra-D）的PECVD Stack（ONO叠层）、ACHM及PECVD Bianca等先进工艺设备，陆续通过客户验收，量产规模不断增加；ALD设备持续扩大量产规模，业务增长强劲，2025年第二季度销售收入超过2024年度收入规模。

公司第二季度净利润和扣非净利润双双实现大幅增长，主要是得益于公司新产品验证机台完成技术导入并实现量产突破和持续优化，2025年第二季度毛利率环比大幅改善，呈现稳步回升态势；其间费用率同比下降，规模效应进一步释放利润空间；营业收入实现大幅度增长。

拓荆科技预计2025年第二季度经营活动产生的现金流量净额较上年同期大幅增加，主要由于2025年第二季度公司预收货款及销售回款较上年同期均大幅增长。