国林科技：回应臭氧水清洗设备能否满足EUV掩膜板清洗精度要求_热点

国林科技：回应臭氧水清洗设备能否满足EUV掩膜板清洗精度要求

创始人

2025-07-07 08:44:37

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投资者提问：

董秘您好，据中科院半导体研究所官方微信公众号发布的研究成果，目前针对EUV（极紫外光）掩膜板的清洗过程中，包括颗粒去除、表面损伤控制、污染防止以及副产物清除等，都具有较大的技术挑战。目前中科院的研究结论认为，一种有效的解决方案是采用臭氧水清洗。臭氧水能够确保有效去除EUV掩膜板的表面有机物和颗粒，而不会导致材料的氧化或表面损伤。请问，公司的臭氧水清洗设备能否满足EUV掩膜板的清洗精度要求？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品包括：半导体级超纯臭氧气体发生器、臭氧气体输送系统、半导体级高浓度臭氧水系统、DI-NH3氨水输送系统、臭氧水杀菌系统、臭氧气体尾气分解器、臭氧水分解器、臭氧气体浓度检测仪、臭氧水溶浓度检测仪等产品。感谢您的关注。

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