国林科技:公司400mg/L臭氧设备相关技术水平
创始人
2025-06-30 17:16:25
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投资者提问：
公司的国外及国内的竞争对手的同类型臭氧产品，其400mg/L及以上的设备已经完全可以用于5nm和3nm制程芯片的生产工艺。请问贵司的400mg/L的臭氧设备具备同等技术水平吗？从技术理论上，是否也能用于5nm和3nm制程芯片？
董秘回答(国林科技SZ300786)：
尊敬的投资者，您好。臭氧发生器核心指标之一就是臭氧气体浓度，目前国林产品可以达到400mg/L指标。感谢您的关注。
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